半导体工业是现代工业的重要组成部分，其生产过程中会产生大量的废气。其中，含砷废气是一种难以处理的有毒废气，因其含有高浓度的砷元素，对人体和环境造成的危害性非常大。因此，半导体含砷废气的治理一直是工业领域的难题。

半导体含砷废气的成分

半导体含砷废气的主要成分是砷化氢（sH3）和三甲基砷（TM）。其中，砷化氢是一种无色、有毒、易燃的气体，具有极强的损伤作用，能破坏人体细胞的DN，导致中毒甚死亡；而三甲基砷则是一种有机砷化合物，同样具有毒性。

半导体含砷废气的治理方法

半导体含砷废气的治理方法主要有物理吸附法、化学吸附法、吸收法、燃烧法、光解法、等离子体法等。

1.物理吸附法

物理吸附法是利用吸附剂对含砷废气进行吸附，将其转化为固体或液体形态，物理吸附法具有操作简单、设备投资少、运行成本低等优点，但其处理效果受环境温度、湿度等因素的影响，处理后的吸附剂难以回收利用。

2.化学吸附法

化学吸附法是利用化学反应将含砷废气中的有害成分吸附在吸附剂上，以化学吸附法具有处理效率高、处理后的吸附剂易于处理等优点，但其成本较高，

3.吸收法

吸收法是利用吸收剂对含砷废气进行吸收，将其转化为溶液形态，吸收法具有处理效率高、处理后的溶液易于处理等优点，但其运行成本较高，设备投资较大。

4.燃烧法

燃烧法是将含砷废气进行燃烧，将有害成分氧化为无害物质，燃烧法具有处理效率高、处理后的废气易于排放等优点，但其设备投资较大，

5.光解法

光解法是利用光线对含砷废气进行分解，将其转化为无害物质，光解法具有处理效率高、操作简单等优点，但其处理效果受光线强度、波长等因素的影响，且设备投资较大。

6.等离子体法

等离子体法是利用等离子体对含砷废气进行处理，将有害成分转化为无害物质，等离子体法具有处理效率高、处理后的废气易于排放等优点，但其设备投资较大，

综合来看，不同的半导体含砷废气治理方法各有优缺点。在实际应用中，应根据工业生产的具体情况和环保要求进行选择。例如，对于处理量较大的含砷废气，可以选择物理吸附法或化学吸附法；对于处理效果要求较高的含砷废气，则可以选择吸收法、燃烧法或等离子体法。

半导体含砷废气的治理是一个复杂而重要的问题，需要综合考虑工业生产的具体情况、环保要求以及治理方法的优缺点等多个方面。